Создана технология нанесения многокомпонентных и многослойных покрытий методом магнетронного распыления, включая реактивное, на изделия с общей площадью поверхности до 10³ см². Генерация плотной плазмы в объеме рабочей камеры низкоэнергетическим электронным пучком обеспечивает ионное сопровождение процесса нанесения для формирования покрытий с плотной структурой и улучшенным сцеплением с основой. Использование распыляемых мишеней различного состава, управление соотношением плотностей потоков атомов и ионов на обрабатываемые изделия и энергией ионов позволяет получать высокофункциональные покрытия на основе широкого круга различных металлов, нитридов и оксидов.

Шесть одновременно работающих плоских магнетронов позволяют наносить в импульсно-периодическом режиме (40 кГц, 12,5 мкс) покрытия, в том числе диэлектрические, в среде как инертных, так и химически активных газов. Для генерации плазмы и ионного сопровождения разработан источник электронов на основе газового разряда с самокалящимся полым катодом,  который генерирует широкий пучок (100 см²) с током до 10 А. Энергия ионов и плотность тока ионов из плазмы, генерируемой электронным пучком, регулируются в диапазоне 10–1000 эВ, 1–10 мА/см², соответственно. Разработаны методики нанесения многослойных покрытий для токовых коллекторов твердоксидных топливных элементов и устойчивых к атмосферной коррозии покрытий для конструкционных сталей.